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ASML申请基于多模光纤成像的量测系统和光刻设备专利，辨别衍射阶对的强度

国家知识产权局信息显示，ASML荷兰有限公司申请一项名为“基于多模光纤成像的量测系统和光刻设备”的专利，公开号CN120476347A，申请日期为2023年11月。

日本光学巨头佳能因市场下滑，自2004年以来一直未新建半导体光刻设备生产工厂。该公司于2025年7月30日宣布，将在其宇都宫光学产品工厂建成一座新的半导体光刻设备工厂。该工厂预计将于9月投入运营。

如今，这一预言得到了验证。最近，中国新锐企业携15款以中国山脉命名的光刻设备亮相上海半导体展会，涵盖第三代半导体、先进制程等领域，释放出国产设备技术突围的强烈信号。

进入2025年，国内半导体并购潮仍在继续。据北方华创3月11日发布的公告，该公司拟通过受让股份的方式取得对沈阳芯源微电子设备股份有限公司（下称“芯源微”）的控制权。北方华创此举意在将业务触手伸向光刻设备领域，完善其在半导体市场的产业链布局，目前，除光刻机和CM

这类光刻技术能达到亚微米级的高分辨率，掩模图形与衬底上的曝光图形在尺寸上近乎一致，基本实现了1:1的比例复制。但是最小分辨率会受到上图公式的约束。并且掩模在曝光过程中易受污染，成为消耗品，但是由于这类光刻设备构造简单，维护成本较低，至今仍在小尺寸衬底的批量生产